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高流量高温
高性能

下一代半导体制造从这里开始

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世伟洛克ALD UHP阀门

启用下一步

半导体超高纯净室

ALD提供了世伟洛克超高纯度原子层沉积ALD阀门所期望的可靠性和性能,同时还开启了以前无法实现的温度稳定性和流动可能性,使制造商能够试验不同的工艺和低蒸气压化学物质来实现今天和明天需要均匀的气体沉积来开发先进技术

改进的流量最小化

新型ALD UHP阀经过专门设计,可扩展原子层沉积阀技术的极限,使流速达到使用现有ALD阀可达到的2-3倍。这使半导体芯片制造商不仅有可能提高产量并提高效率,而且有潜力这样做不会显着改变流程

  • ALD可以提供C的流速与现有的ALD阀相同的占地面积,可提供改进的性能,而无需重新安装现有设备
  • 第二种标准ALD阀变型形式,其覆盖区宽度稍大,可产生更大的C流量超高循环UHP阀目前可获得的最高值

毫不妥协的一致性

ald超高纯阀

由于一些关键特性,ALD的设计可在超高循环寿命过程中促进一致的操作

  • 整个阀和执行器完全浸入F C至F C的气箱中,从而无需在加热过程中隔离执行器,从而降低了蒸汽的沉积一致性,从而降低了蒸汽压力,将气体保持在有利于最佳流量的温度下。
  • L VIM VAR不锈钢或合金阀体材料选件可提供增强的耐腐蚀性,以承受日益腐蚀的介质
  • μinR高度抛光的波纹管一种表面处理在超高循环寿命过程中支持清洁操作,以确保过程完整性
  • 气动执行器可提供高速ms可重复执行器,以实现精确一致的流量,从而满足计量要求

技术指标

工作压力 真空至psig bar
爆破压力 psig酒吧
驱动压力 至psig至bar
温度 从F到C
流量系数C) MSM或直纹
车身材料 L VIM VAR或合金
波纹管材料 合金μinR一种完了
终端连接
字号 女录像机®适合
旋转式VCR公接头
管对接焊缝在x in长
模块化表面安装高流量C密封件

有关ALD UHP阀如何在不牺牲一致性或可重复性的情况下如何帮助提高半导体芯片制造应用中的精度和性能的更多信息联系您当地的世伟洛克销售和服务中心.

安全选择产品必须检查完整的目录内容,以确保系统设计人员和用户进行安全的产品选择。选择产品时,必须考虑整个系统的设计,以确保安全无故障的性能。功能材料的兼容性要有足够的额定值,以确保正确的安装操作和维护。系统设计者和用户的责任

注意请勿将互换世伟洛克的两个套圈管接头端部连接组件或不受工业设计标准约束的其他产品与其他制造商的产品混合使用